国产光刻胶紧要碎裂！
发布日期：2024-11-22 08:03 点击次数：125
据中国光谷公众号，近日，光谷企业在半导体专用光刻胶规模终了紧要碎裂。
武汉太紫微光电科技有限公司（以下简称“太紫微公司”）推出的T150 A光刻胶居品，已通过半导体工艺量产考据，终了配方全自主筹画，有望始创国内半导体光刻制造新处所。
该居品对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。相较于被业内称之为“妖胶”的海外同系列居品UV1610，T150 A在光刻工艺中发扬出的极限别离率达到120nm，且工艺优容度更大，踏实性更高，天创优配坚膜后烘留膜率优秀，其对后谈刻蚀工艺发扬更为友好，通过考据发现T150 A中密集图形经由刻蚀，基层介质的侧壁垂直度发扬优异。
据公开贵府，股票杠杆太紫微公司缔造于2024年5月，由华中科技大学武汉光电国度扣问中心团队创立。
太紫微公司企业崇敬东谈主、英国皇家化学会会员、华中科技大学讲授朱明强暗意：“以原材料的诱骗为起原，最终获取具有自主常识产权的配方期间，这仅仅个开动，咱们团队还会发展一系列愚弄于不同场景下的KrF与ArF光刻胶，为国内关连产业带来更多惊喜。”
太紫微公司接力于半导体专用高端电子化学品材料的诱骗，并以新期间道路为半导体制造开辟新式先进光刻制造期间，同期为材料的分析与考据提供最全面的技能。
“不管是从国内半导体产业崛起的布景来看，仍是从摩尔定律演变的规则量度昔时，‘各抒已见’的处所已酿成，光刻规模还会有好多新期间、新企业破茧成蝶，但领有科技革命的力量是存活下去的必要前提。”太紫微外聘众人照看人向诗力博士暗意。
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